[досмотренная версия][досмотренная версия]
(Труды)
 
(не показаны 4 промежуточные версии 2 участников)
Строка 8: Строка 8:
 
  |Дата рождения        = [[30 июля в истории Томского университета|30]] [[Июль 1931 года в истории Томского университета|июля]] [[1931 год в истории Томского университета|1931]] г.
 
  |Дата рождения        = [[30 июля в истории Томского университета|30]] [[Июль 1931 года в истории Томского университета|июля]] [[1931 год в истории Томского университета|1931]] г.
 
  |Место рождения      = Чита
 
  |Место рождения      = Чита
  |Дата смерти          =  
+
  |Дата смерти          = [[2008 год в истории Томского университета|2008]] г.
 
  |Место смерти        =  
 
  |Место смерти        =  
 
  |Гражданство          =  
 
  |Гражданство          =  
Строка 15: Строка 15:
 
  |Период работы в Томском университете  =  
 
  |Период работы в Томском университете  =  
 
  |Место работы в Томском университете  =  
 
  |Место работы в Томском университете  =  
  |Учёная степень      =  
+
  |Учёная степень      = доктор физико-математических наук
  |Учёное звание        =  
+
  |Учёное звание        = [[:Категория: Профессора Томского университета|профессор]]
 
  |Альма-матер          =  
 
  |Альма-матер          =  
  |Научный руководитель =  
+
  |Научный руководитель = [[Преснов, Виктор Алексеевич|В.А. Преснов]]
  |Знаменитые ученики  =  
+
  |Знаменитые ученики  = [[Ивонин, Иван Варфоломеевич|И.В. Ивонин]], И.С. Захаров
  |Награды и премии    =  
+
  |Награды и премии    = [[:Категория: Награжденные медалью «Ветеран труда»|Медаль «Ветеран труда»]] (1984); [[:Категория: Лауреаты премии Томского государственного университета|Лауреат премии Томского государственного университета]] (1998); [[:Категория: Награжденные медалью «За заслуги перед Томским государственным университетом»|Медаль «За заслуги перед Томским государственным университетом»]] (1998)
 
}}
 
}}
  
''' ЛАВРЕНТЬЕВА Людмила Германовна ''' (родилась [[30 июля в истории Томского университета|30]] [[Июль 1931 года в истории Томского университета|июля]] [[1931 год в истории Томского университета|1931]] г., Чита) – профессор кафедры физики полупроводников.
+
''' ЛАВРЕНТЬЕВА Людмила Германовна ''' (родилась [[30 июля в истории Томского университета|30]] [[Июль 1931 года в истории Томского университета|июля]] [[1931 год в истории Томского университета|1931]] г., Чита – [[2008 год в истории Томского университета|2008]] г.) – профессор кафедры физики полупроводников.
  
 
=='''Семья'''==
 
=='''Семья'''==
Отец Л., Герман Филиппович (1903-1973), из многодетной семьи (10 детей), в 15 лет остался без попечения родителей. После окончания ремесленного училища работал в ж.-д. депо (Чита), затем служил в РККА. После демобилизации работал связистом на Забайкальской ж.д. Мать Л., Клавдия Алексеевна (дев. Махнева, р. 1910), родом из семьи ж.-д. рабочего ст. Карымская.  
+
Отец Л.Г. Лаврентьевой, Герман Филиппович (1903-1973), из многодетной семьи (10 детей), в 15 лет остался без попечения родителей. После окончания ремесленного училища работал в железно-дорожном депо (Чита), затем служил в РККА. После демобилизации работал связистом на Забайкальской железной дороге. Мать Л.Г. Лаврентьевой, Клавдия Алексеевна (девичья фамилия Махнева, 1910), родом из семьи железно-дорожного рабочего станции Карымская. После окончания Читинской школы конторского ученичества (1928) работала счетоводом-делопроизводителем. Выйдя замуж оставила работу и занималась домашним хозяйством и воспитанием детей (Л.Г. Лаврентьева; Галина, 1933; Нина, 1939).
 +
 
 +
В поисках работы, а во второй половине 30-х, спасаясь от репрессий, отец Л.Г. Лаврентьевой вместе с семьей вынужден был менять местожительство. Перед войной переехал в с. Ново-Романово Юргинского района Кемеровской области, где Л.Г. Лаврентьева училась в семилетней школе, которую окончила в 1945 г. В годы войны мать Л.Г. Лаврентьевой работала бухгалтером в машинно-тракторной станции, а отец в апреле 1942 г. был призван в РККА и вскоре направлен на Челябинский танковый завод, где ремонтировал танки. После тяжелой простуды был переведен на инвалидность. Подлечившись, устроился на телефонно-охранную станцию одного из предприятий Бердска (Новосибирская область) предприятия п/я № 7, а позднее стал руководителем этого подразделения. Мать работала на том же предприятии телефонисткой, затем делопроизводителем, инспектором отдела кадров.
 +
 
 +
Была замужем за Виктором Александровичем Чалдышевым (1929). Он окончил физический факультет [[Томский государственный университет|ТГУ]], кандидат физико-математических наук, доцент, более 30 лет заведовал лабораторией теоретической физики СФТИ, доцент кафедры физики полупроводников физического факультета [[Томский государственный университет|ТГУ]], ветеран труда. Их дети: Наталья Чалдышева (родилась в 1953 г.), окончила радиофизический факультет [[Томский государственный университет|ТГУ]], работала в СФТИ, технический директор фирмы «Поиск»; Владимир Чалдышев (родился в 1958 г.), окончил физико-механический факультет Ленинградского политехнического института (ныне Санкт-Петербургский технический университет), доктор физико-математических наук, ведущий научный сотрудник ФТИ им. А.Ф. Иоффе.
  
 
=='''Школьные и студенческие годы'''==
 
=='''Школьные и студенческие годы'''==
После окончания  Читинской школы конторского ученичества (1928) работала счетоводом-делопроизводителем. Выйдя замуж оставила работу и занималась домашним х-вом и воспитанием детей (Л.; Галина, р. 1933; Нина, 1939). В поисках работы, а во втор. пол. 30-х, спасаясь от репрессий, отец Л. вместе с семьей вынужден был менять местожительство. Перед войной переехал в с. Ново-Романово Юргинского р-на Кем. обл., где Л. училась в семилетней школе., которую окончила в 1945. В годы войны мать Л. работала бухгалтером в МТС, а отец в апр. 1942 был призван в РККА и вскоре направлен на Челябинский танковый завод, где ремонтировал танки. После тяжелой простуды был переведен на инвалидность. Подлечившись, устроился на телефонно-охранную станцию одного из предприятий Бердска (Новосиб. обл.).предприятия п/я № 7, а позднее стал руководителем этого подразделения. Мать работала на том же предприятии телефонисткой, затем делопроизводителем, инспектором отдела кадров. В н. в. на пенсии. Л. после окончания Бердской средней школы № 2 (1948) поступила на физ.-мат. ф-т [[Томский государственный университет|ТГУ]], который вскоре разделился на мех.-мат. и физ. ф-ты. Среди ее унив. учителей Г.А. Бюлер, Ф.И. Вергунас, К.В. Водопьянов, В.В. Жданов, Н.А. Прилежаева, А.Б. Сапожников, С.М. Чанышев и др. В годы учебы была старостой гр. Работала пропагандистом на Том. электромоторном заводе. Отвечала за науч.-исслед. работу студентов ст. курсов ф-та. В составе гр. студентов и аспирантов за выполнение темы «Исследование физ. свойств спая стекла и керамики с металлом» была награждена грамотой [[Томский государственный университет|ТГУ]], грамотой и денежной премией МВО СССР (1952). Окончила ун-т (1953) по специальности «физика» с квалификацией «физик», защитив дипломную работу «Исследование влияния добавок окислов металлов на физ. свойства вакуумноплотной керамики» (науч. руководитель В.А. Преснов).  
+
Л.Г. Лаврентьева после окончания Бердской средней школы № 2 (1948) поступила на физико-математический факультет [[Томский государственный университет|ТГУ]], который вскоре разделился на механико-математический и физический факультеты. Среди ее университетских учителей [[Бюлер, Георгий Александрович|Г.А. Бюлер]], [[Вергунас, Фелициана Игнатьевна|Ф.И. Вергунас]], [[Водопьянов, Константин Алексеевич|К.В. Водопьянов]], В.В. Жданов, [[Прилежаева, Наталья Александровна|Н.А. Прилежаева]], [[Сапожников, Александр Борисович|А.Б. Сапожников]], С.М. Чанышев и др.  
 +
 
 +
В годы учебы была старостой группы. Работала пропагандистом на Томском электромоторном заводе. Отвечала за научно-исследовательскую работу студентов старших курсов факультета. В составе группы студентов и аспирантов за выполнение темы «Исследование физических свойств спая стекла и керамики с металлом» была награждена грамотой [[Томский государственный университет|ТГУ]], грамотой и денежной премией МВО СССР (1952). Окончила университет (1953) по специальности «физика» с квалификацией «физик», защитив дипломную работу «Исследование влияния добавок окислов металлов на физические свойства вакуумноплотной керамики» (научный руководитель [[Преснов, Виктор Алексеевич|В.А. Преснов]]).  
  
 
=='''Научно-организационная и преподавательская деятельность'''==
 
=='''Научно-организационная и преподавательская деятельность'''==
С 1 нояб. 1953 - аспирант каф. диэлектриков и полупроводников (бывшая каф. электрофизики). С 1 нояб. 1956 - асс. каф. полупроводников радиофиз. ф-та, с 1 авг. 1960 - ст. науч. сотр. проблемной лаб. полупроводников [[Томский государственный университет|ТГУ]], с 1 нояб. 1961 - ст. науч. сотр. лаб. полупроводников СФТИ при [[Томский государственный университет|ТГУ]]. По совместительству с 3 сент. 1967 по 30 июня 1970 - доц. каф. полупроводников радиофиз. ф-та. После организации лаб. эпитаксиальных структур в отделе физики полупроводников СФТИ с 1 янв. 1974 по 1 окт. 1993 - зав. лаб. В 1982 по инициативе Л. на каф. физики твердого тела физ. ф-та [[Томский государственный университет|ТГУ]] была организована подготовка специалистов по физике полупроводников (до 1991 Л. и. о. руководителя специализации). По совместительству с 1 сент. 1983 - проф. каф. физики твердого тела. После открытия на физ. ф-те каф. физики полупроводников Л. - зав каф. (с 1 сент. 1991 до 1 сент. 2002, до 1 окт. 1993 по совместительству).  
+
С 1 ноября 1953 г. аспирант кафедры диэлектриков и полупроводников (бывшая кафедра электрофизики). С 1 ноября 1956 г. – [[:Категория: Ассистенты Томского университета|ассистент]] кафедры полупроводников радиофизического факультета, с 1 августа 1960 г. – [[:Категория: Старшие научные сотрудники Томского университета|старший научный сотрудник]] проблемной лаборатории полупроводников [[Томский государственный университет|ТГУ]], с 1 ноября 1961 г. – [[:Категория: Старшие научные сотрудники Томского университета|старший научный сотрудник]] лаборатории полупроводников СФТИ при [[Томский государственный университет|ТГУ]]. По совместительству с 3 сентября 1967 г. по 30 июня 1970 г. – [[:Категория: Доценты Томского университета|доцент]] кафедры полупроводников радиофизического факультета. После организации лаборатории эпитаксиальных структур в отделе физики полупроводников СФТИ с 1 января 1974 г. по 1 октября 1993 г. [[:Категория: Заведующие лабораториями Томского университета|заведующая лабораторией]].  
  
Учен. звание ст. науч. сотр. присвоено ВАК 25 марта 1964, доц. по каф. полупроводников присвоено ВАК 26 февр. 1969, проф. по специальности «физика полупроводников и диэлектриков» присвоено ВАК 17 мая 1985.  
+
В 1982 г. по инициативе Л.Г. Лаврентьевой на кафедре физики твердого тела физического факультета [[Томский государственный университет|ТГУ]] была организована подготовка специалистов по физике полупроводников (до 1991 г. Л.Г лаврентьева исполняющая обязанности руководителя специализации). По совместительству с 1 сентября 1983 г. – [[:Категория: Профессора Томского университета|профессор]] кафедры физики твердого тела. После открытия на физическом факультете кафедры физики полупроводников Л.Г. Лаврентьева – [[:Категория: Заведующие кафедрами Томского университета|заведующая кафедрой]] (с 1 сентября 1991 г. до 1 сентября 2002 г., до 1 октября 1993 г. по совместительству).  
  
Читает курс физ. химии; спецкурсы: «Физика полупроводников», «Физ. материаловедение полупроводников», «Методы исследования структуры и свойств полупроводников».  
+
Ученое звание [[:Категория: Старшие научные сотрудники Томского университета|старшего научного сотрудника]] присвоено ВАК 25 марта 1964 г., [[:Категория: Доценты Томского университета|доцента]] по кафедре полупроводников присвоено ВАК 26 февраля 1969 г., [[:Категория: Профессора Томского университета|профессора]] по специальности «физика полупроводников и диэлектриков» присвоено ВАК 17 мая 1985 г.
 +
 
 +
Читает курс физической химии; спецкурсы: «Физика полупроводников», «Физическое материаловедение полупроводников», «Методы исследования структуры и свойств полупроводников».  
  
 
=='''Научно-исследовательская деятельность'''==
 
=='''Научно-исследовательская деятельность'''==
Основное направление науч. исследований Л. - физ. материаловедение применительно к материалам электронной техники. До начала 60-х гг. она занималась материаловедением диэлектриков: исследовала структуру и свойства стеатитовой радиокерамики, производство которой осваивал один из новосиб. заводов. Экспериментально было изучено влияние состава шихты и условий отжига на процесс формирования структуры кристаллической фазы (метасиликата магния) керамики, на полиморфные превращения в этой фазе, найдены условия стабилизации структуры, что позволило инженерам-разработчикам скорректировать технологию производства и увеличить срок службы металлокерамических радиоламп.  
+
Основное направление научных исследований Л.Г. лаврентьевой – физическое материаловедение применительно к материалам электронной техники. До начала 60-х гг. она занималась материаловедением диэлектриков: исследовала структуру и свойства стеатитовой радиокерамики, производство которой осваивал один из новосибирских заводов. Экспериментально было изучено влияние состава шихты и условий отжига на процесс формирования структуры кристаллической фазы (метасиликата магния) керамики, на полиморфные превращения в этой фазе, найдены условия стабилизации структуры, что позволило инженерам-разработчикам скорректировать технологию производства и увеличить срок службы металлокерамических радиоламп.  
  
23 мая 1960 в совете [[Томский государственный университет|ТГУ]] Л. защитила дис. «Исследование структуры стеатитовых керамических радиоматериалов» на соиск. учен. ст. канд. физ.-мат. наук (науч. руководитель В.А. Преснов; офиц. оппоненты д-р физ.-мат. наук, проф. Н.А. Прилежаева и канд. техн. наук, доц. Р.М. Кессених; утв. ВАК 6 мая 1961). Затем Л. по совету В.А. Преснова переключилась на материаловедение полупроводников, занявшись газофазовой эпитаксией (ГФЭ) полупроводников А3В5. В лаб. полупроводников СФТИ под руководством Л. была создана группа из выпускников радиофиз. и физ. ф-тов [[Томский государственный университет|ТГУ]] (М.Д. Вилисова, И.К. Ковалев, Ю.Г. Катаев, В.А. Московкин и др). Впервые в СССР в СФТИ в 1961 были получены пленки арсенида галлия газофазовым методом (совм. с В.А. Пресновым, М.Д. Вилисовой), изготовлены первые туннельные диоды на этих пленках. Для развития работ по эпитаксии полупроводников в СФТИ на базе двух науч. групп (эпитаксии и структурных методов, руководители Л. и М.П. Якубеня) в 1973 была сформирована, а в 1974 официально открыта в рамках отдела физики полупроводников лаб. эпитаксиальных структур (руководитель Л). В последующие годы лаб. была оснащена аппаратурой для проведения ГФЭ, изучения структуры (электронные микроскопы, электронограф, рентгеновский дифрактометр) и свойств полупроводников. Были проведены исследования кинетики кристаллизации и легирования эпитаксиальных слоев полупроводников, получаемых методом ГФЭ, выполнено физ. моделирование этих процессов. Для полупроводников А3В5 (арсенид галлия, арсенид индия) установлены зависимости скорости роста и скорости захвата примеси от кристаллографических индексов поверхности кристалла, исследованы зависимости кинетики роста и кинетики захвата примеси от основных параметров процесса ГФЭ: типа транспортного вещества (иод, хлор), его концентрации и температуры кристаллизации, получены данные о влиянии электрического поля на эпитаксиальный рост пленок арсенида галлия. Выявлены основные закономерности образования переходных слоев на границе пленки с подложкой и роль структуры подложки в формировании специфических дефектов роста (центров торможения ст. роста). Получены приоритетные результаты по закономерностям формирования сложных точечных дефектов (примесно-вакансионных комплексов) в условиях ГФЭ. Разработаны физ. модели и проведены расчеты термодинамики адсорбции и комплексообразования, кинетики роста и легирования применительно к газофазовой эпитаксии сложных полупроводников.  
+
23 мая 1960 г. в совете [[Томский государственный университет|ТГУ]] Л.Г. Лаврентьева [[:Категория: Защитившие кандидатские диссертации в Томском университете|защитила диссертацию]] «Исследование структуры стеатитовых керамических радиоматериалов» на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук (научный руководитель [[Преснов, Виктор Алексеевич|В.А. Преснов]]; официальные оппоненты доктор физико-математических наук, профессор [[Прилежаева, Наталья Александровна|Н.А. Прилежаева]] и кандидат технических наук, доцент Р.М. Кессених; утверждено ВАК 6 мая 1961 г.).  
  
6 мая 1982 в спец. совете Ин-та физики полупроводников СО АН СССР (Новосибирск) Л. защитила дис. «Кинетика и механизм газофазовой эпитаксии (на примере арсенида галлия)» на соиск. учен. ст. д-ра физ.-мат. наук (офиц. оппоненты д-ра физ.-мат. наук А.Ф. Кравченко и С.А. Семилетов, д-р техн. наук Ю.Д. Чистяков; утв. ВАК 17 июня 1983). Результаты исследований Л. были использованы при отработке технологий производства материалов и приборов электроники. С нач. 90-х под руководством Л. изучались эпитаксиальные слои арсенида галлия, получаемые методом молекулярно-пучковой эпитаксии при низких температурах (LT-GaAs). Работа выполнялась сотр. трех коллективов (СФТИ, ИФП СО РАН, ФТИ им. А.Ф. Иоффе) при фин. поддержке различных программ и грантов. В результате выяснено, что монокристаллические слои LT-GaAs содержат аномально высокую концентрацию избыточного мышьяка, формирующего при отжиге преципитаты (кластеры) нанометровых размеров, которые существенно изменяют свойства материала. Такой материал представляет практ. интерес для СВЧ-приборов спец. назначения.  
+
Затем Л.Г. Лаврентьева по совету [[Преснов, Виктор Алексеевич|В.А. Преснова]] переключилась на материаловедение полупроводников, занявшись газофазовой эпитаксией (ГФЭ) полупроводников А3В5. В лаборатории полупроводников СФТИ под руководством Л.Г. Лаврентьевой была создана группа из выпускников радиофизического и физического факультетов [[Томский государственный университет|ТГУ]] (М.Д. Вилисова, И.К. Ковалев, Ю.Г. Катаев, В.А. Московкин и др). Впервые в СССР в СФТИ в 1961 г. были получены пленки арсенида галлия газофазовым методом (совместно с [[Преснов, Виктор Алексеевич|В.А. Пресновым]], М.Д. Вилисовой), изготовлены первые туннельные диоды на этих пленках.  
  
Под руководством Л. в [[Томский государственный университет|ТГУ]] сформировались науч. направление «Физ. основы газофазовой эпитаксии полупроводников А3В5» и науч. школа.  
+
Для развития работ по эпитаксии полупроводников в СФТИ на базе двух научных групп (эпитаксии и структурных методов, руководители Л.Г. Лаврентьева и [[Якубеня, Михаил Петрович|М.П. Якубеня]]) в 1973 г. была сформирована, а в 1974 г. официально открыта в рамках отдела физики полупроводников лаб. эпитаксиальных структур (руководитель Л.Г. Лаврентьева).  
  
 +
В последующие годы лаборатория была оснащена аппаратурой для проведения ГФЭ, изучения структуры (электронные микроскопы, электронограф, рентгеновский дифрактометр) и свойств полупроводников. Были проведены исследования кинетики кристаллизации и легирования эпитаксиальных слоев полупроводников, получаемых методом ГФЭ, выполнено физическое моделирование этих процессов. Для полупроводников А3В5 (арсенид галлия, арсенид индия) установлены зависимости скорости роста и скорости захвата примеси от кристаллографических индексов поверхности кристалла, исследованы зависимости кинетики роста и кинетики захвата примеси от основных параметров процесса ГФЭ: типа транспортного вещества (иод, хлор), его концентрации и температуры кристаллизации, получены данные о влиянии электрического поля на эпитаксиальный рост пленок арсенида галлия. Выявлены основные закономерности образования переходных слоев на границе пленки с подложкой и роль структуры подложки в формировании специфических дефектов роста (центров торможения ст. роста). Получены приоритетные результаты по закономерностям формирования сложных точечных дефектов (примесно-вакансионных комплексов) в условиях ГФЭ. Разработаны физические модели и проведены расчеты термодинамики адсорбции и комплексообразования, кинетики роста и легирования применительно к газофазовой эпитаксии сложных полупроводников.
  
Она подготовила 10 канд. наук. Защитили докт. дис. ее ученики И.С. Захаров (в н. в. ректор Курского техн. ун-та, засл. деятель науки, организатор и гл. ред. всерос. науч.-техн. ж. «Телекоммуникации») и И.В. Ивонин (в н. в. зав. лаб. эпитаксиальных структур отдела физики полупроводников СФТИ, зав. каф. физики полупроводников физ. ф-та [[Томский государственный университет|ТГУ]]).  
+
6 мая 1982 г. в специальном совете Института физики полупроводников СО АН СССР (Новосибирск) Л.Г. Лаврентьева защитила диссертацию «Кинетика и механизм газофазовой эпитаксии (на примере арсенида галлия)» на соискание ученой степени доктора физико-математических наук (официальные оппоненты доктора физико-математических наук А.Ф. Кравченко и С.А. Семилетов, доктор технических наук Ю.Д. Чистяков; утверждено ВАК 17 июня 1983 г.).
 +
 
 +
Результаты исследований Л.Г. Лаврентьевой были использованы при отработке технологий производства материалов и приборов электроники. С начала 90-х под руководством Л.Г. Лаврентьевой изучались эпитаксиальные слои арсенида галлия, получаемые методом молекулярно-пучковой эпитаксии при низких температурах (LT-GaAs). Работа выполнялась сотр. трех коллективов (СФТИ, ИФП СО РАН, ФТИ им. А.Ф. Иоффе) при финансовой поддержке различных программ и грантов. В результате выяснено, что монокристаллические слои LT-GaAs содержат аномально высокую концентрацию избыточного мышьяка, формирующего при отжиге преципитаты (кластеры) нанометровых размеров, которые существенно изменяют свойства материала. Такой материал представляет практический интерес для СВЧ-приборов специального назначения.
 +
 
 +
Под руководством Л.Г. Лаврентьевой в [[Томский государственный университет|ТГУ]] сформировались научное направление «Физические основы газофазовой эпитаксии полупроводников А3В5» и научная школа.
 +
 
 +
Автор более 250 работ, 5 учебных пособий и методических разработок, получила 3 авторских свидетельства.
 +
 
 +
=='''Деятельность по подготовке кадров высшей квалификации'''==
 +
Она подготовила 10 кандидатов наук. Защитили докторские диссертации ее ученики И.С. Захаров (ректор Курского технического университета, заслуженный деятель науки, организатор и главный редактор всероссийского научно-технического журнала «Телекоммуникации») и [[Ивонин, Иван Варфоломеевич|И.В. Ивонин]] (заведующий лабораторией эпитаксиальных структур отдела физики полупроводников СФТИ, заведующий кафедрой физики полупроводников физического факультета [[Томский государственный университет|ТГУ]]).  
  
 
=='''Участие в конференциях, совещаниях, симпозиумах и международная деятельность'''==
 
=='''Участие в конференциях, совещаниях, симпозиумах и международная деятельность'''==
Принимала участие в работе многих междунар., всесоюзн. и рос. науч. конф. и совещ. Входила в состав оргкомитета Всерос. науч. конф. по арсениду галлия (Томск, 1965, 1968, 1974, 1978, 1982, 1987, 1999, 2002).  
+
Принимала участие в работе многих международных, всесоюзных и российских научных конференциях и совещаниях. Входила в состав оргкомитета Всероссийских научных конференций по арсениду галлия (Томск, 1965, 1968, 1974, 1978, 1982, 1987, 1999, 2002).
 +
 +
=='''Научно-организационная и экспертная деятельность'''==
 +
С 2001 г. Л.Г. Лаврентьева – член докторского диссертационного совета (физика конденсированного состояния; физика полупроводников) в [[Томский государственный университет|ТГУ]]. До 2001 г. входила в состав кандидатов диссертационного совета в [[Томский государственный университет|ТГУ]].  
  
Автор более 250 работ, 5 учеб. пособий и метод. разработок, получила 3 авт. свидетельства.  
+
Являлась членом научного совета АН СССР «Физико-химические основы полупроводникового материаловедения», совета АН СССР по росту кристаллов, научно-методического совета УМО Минвуза РФ по образованию в области авиации, ракетостроения, космоса и др.  
  
 +
С 1997 – член Научного совета РАН «Физико-химические основы материаловедения полупроводников». Член редколлегии журнала «Известия вузов. Физика» (1982-1991). С 1997 г. – член редколлегии журнала «Известия вузов. Материалы электронной техники» (Москва). 
  
Премия [[Томский государственный университет|ТГУ]] за учеб. пособие «Физ. явления в полупроводниках» (1998). С 2001 Л. - чл. докт. дис. совета (физика конденсированного состояния; физика полупроводников) в [[Томский государственный университет|ТГУ]]. До 2001 входила в состав канд. дис. совета в [[Томский государственный университет|ТГУ]]. Являлась чл. науч. совета АН СССР «Физ.-хим. основы полупроводникового материаловедения», совета АН СССР по росту кристаллов, науч.-метод. совета УМО Минвуза РФ по образованию в обл. авиации, ракетостроения, космоса и др. С 1997 - чл. Науч. совета РАН «Физ.-хим. основы материаловедения полупроводников». Чл. редколлегии ж. «Изв. вузов. Физика» (1982-1991). С 1997 - чл. редколлегии ж. «Изв. вузов. Материалы электронной техники» (Москва). Награждена нагрудными знаками «За отличные успехи в работе» Минвуза СССР (1978), «Почетный работник высшего профес. образования РФ» (1998), медалью «За заслуги перед Том. гос. ун-том» (1998). Чл.-корр. (1996), д. чл. РАЕН (2000). Действ. чл. Азиатско-Тихоокеанской академии материалов (APAM - The Asia-Pacific Academy of Materials, 1997). Депутат Том. городского совета депутатов трудящихся (1971-1980). Избиралась чл. профбюро СФТИ, чл. профбюро [[Томский государственный университет|ТГУ]].  
+
[[:Категория: Члены-корреспонденты Российской академии наук|Член-корреспондент]] (1996), действительный член РАЕН (2000). Действительный член Азиатско-Тихоокеанской академии материалов (APAM The Asia-Pacific Academy of Materials, 1997). Депутат Томского городского совета депутатов трудящихся (1971-1980). Избиралась членом профбюро СФТИ, член профбюро [[Томский государственный университет|ТГУ]].  
  
Замужем за Виктором Александровичем Чалдышевым (р. 1929). Он окончил физ. ф-т [[Томский государственный университет|ТГУ]], канд. физ.-мат. наук, доц., более 30 лет заведовал лаб. теорет. физики СФТИ, в н. в. доц. каф. физики полупроводников физ. ф-та [[Томский государственный университет|ТГУ]], ветеран труда. Их дети: Наталья Чалдышева (р. 1953), окончила радиофиз. ф-т [[Томский государственный университет|ТГУ]], работала в СФТИ, в н. в. техн. директор фирмы «Поиск»; Владимир Чалдышев (р. 1958), окончил физ.-мех. ф-т Ленинградского политехн. ин-та (ныне С.-Петербургский техн. ун-т), д-р физ.-мат. наук, в н. в. ведущий науч. сотр. ФТИ им. А.Ф. Иоффе.
+
=='''Награды и премии'''==
Награды: медали «За доблестный труд. В ознаменование 100-летия со дня рождения Владимира Ильича Ленина» (1970), «Ветеран труда» (1984).
+
* Медаль «За доблестный труд. В ознаменование 100-летия со дня рождения Владимира Ильича Ленина» (1970);
 +
* [[:Категория: Награжденные медалью «Ветеран труда»|Медаль «Ветеран труда»]] (1984);
 +
* [[:Категория: Лауреаты премии Томского государственного университета|Лауреат премии Томского государственного университета]] за учебное пособие «Физические явления в полупроводниках» (1998);
 +
* Нагрудный знак «За отличные успехи в работе» Минвуза СССР (1978);
 +
* Нагрудный знак «Почетный работник высшего профессионального образования РФ» (1998);
 +
* [[:Категория: Награжденные медалью «За заслуги перед Томским государственным университетом»|Медаль «За заслуги перед Томским государственным университетом»]] (1998).
  
 
=='''Труды'''==
 
=='''Труды'''==
Совм. с И.С. Захаровым, Ю.М. Румянцевым. Зависимость скорости роста и уровня легирования эпитаксиального германия от ориентации подложки // Кристаллография. 1970. Т. 15, № 4;  
+
* Совместно с И.С. Захаровым, Ю.М. Румянцевым. Зависимость скорости роста и уровня легирования эпитаксиального германия от ориентации подложки // Кристаллография. 1970. Т. 15, № 4;  
Совм. с Л.П. Пороховниченко, И.В. Ивониным, Л.М. Красильниковой. Зарождение дефектов при эпитаксии арсенида галлия // Дефекты структуры в полупроводниках. Новосибирск, 1973;
+
* Совместно с Л.П. Пороховниченко, [[Ивонин, Иван Варфоломеевич|И.В. Ивониным]], Л.М. Красильниковой. Зарождение дефектов при эпитаксии арсенида галлия // Дефекты структуры в полупроводниках. Новосибирск, 1973;
Совм. с М.Д. Вилисовой. Переходные слои в автоэпитаксиальных структурах // Изв. СО АН СССР. Сер. хим. 1975. № 2, вып. 1;  
+
* Совместно с М.Д. Вилисовой. Переходные слои в автоэпитаксиальных структурах // Известия СО АН СССР. Серия химия. 1975. № 2, вып. 1;  
Совм. с I.V. Ivonin, L.M. Krasilnikova, M.D. Vilisova. Formation of submicron growth defects during vapour deposition of GaAs films // Kristall und Technik, 1980. Vol. 15, № 6;  
+
* Совместно с I.V. Ivonin, L.M. Krasilnikova, M.D. Vilisova. Formation of submicron growth defects during vapour deposition of GaAs films // Kristall und Technik, 1980. Vol. 15, № 6;  
Фоновые примеси и локальные неоднородности в слоях арсенида галлия, полученных газофазовой эпитаксией // Процессы роста и структура монокристаллических слоев полупроводников. Новосибирск, 1981; Захват примеси при газофазовой эпитаксии арсенида галлия // Изв. вузов. Физика. 1983. № 10;  
+
* Фоновые примеси и локальные неоднородности в слоях арсенида галлия, полученных газофазовой эпитаксией // Процессы роста и структура монокристаллических слоев полупроводников. Новосибирск, 1981;  
Совм. с И.А. Бобровниковой, С.Е. Тороповым. Комплексообразование при газофазовой эпитаксии арсенида галлия, легированного теллуром // Там же. 1986. № 5;  
+
* Захват примеси при газофазовой эпитаксии арсенида галлия // Известия вузов. Физика. 1983. № 10;  
Совм. с М.Д. Вилисовой. Образование центров с глубокими уровнями при газофазовой эпитаксии арсенида галлия // Там же;  
+
* Совместно с И.А. Бобровниковой, С.Е. Тороповым. Комплексообразование при газофазовой эпитаксии арсенида галлия, легированного теллуром // Известия вузов. Физика. 1986. № 5;  
Совм. с М.П. Рузайкиным, А.Б. Свечниковым. Расчет энергии адсорбции атомов H и Cl на реконструированной грани (2х1)(100) кремния // Поверхность. 1988. № 11;  
+
* Совместно с М.Д. Вилисовой. Образование центров с глубокими уровнями при газофазовой эпитаксии арсенида галлия // Известия вузов. Физика;  
Совм. с М.Д. Вилисовой, В.В. Преображенским, В.В. Чалдышевым. Молекулярно-лучевая эпитаксия арсенида галлия при низких температурах: влияние избыточного мышьяка на структуру и свойства слоев // Изв. вузов. Физика. 2002. №8.
+
* Совместно с З. Алексеевой. Дело ученого // [https://www.lib.tsu.ru/mminfo/2017/000463479/1987/1987_031.pdf За советскую науку. 1987. № 31];
 +
* Совместно с М.П. Рузайкиным, А.Б. Свечниковым. Расчет энергии адсорбции атомов H и Cl на реконструированной грани (2х1)(100) кремния // Поверхность. 1988. № 11;  
 +
* Совместно с М.Д. Вилисовой, В.В. Преображенским, В.В. Чалдышевым. Молекулярно-лучевая эпитаксия арсенида галлия при низких температурах: влияние избыточного мышьяка на структуру и свойства слоев // Известия вузов. Физика. 2002. №8.
  
 
=='''Источники и литература'''==
 
=='''Источники и литература'''==
Архив [[Томский государственный университет|ТГУ]]. Ф. Р-815. Оп. 28. Д. 3;  
+
* Архив [[Томский государственный университет|ТГУ]]. Ф. Р-815. Оп. 28. Д. 3;  
Оп. 65. Д. 64;  
+
* Оп. 65. Д. 64;  
Эпиктетова Л. Началось со взрывов // За сов. науку. 1970. 8 янв.;  
+
* Эпиктетова Л. Началось со взрывов // [https://www.lib.tsu.ru/mminfo/2017/000463479/1970/1970_001.pdf За советскую науку. 1970. 8 января];  
Развитие физ. наук в Том. ун-те: Сб. ст. / Ред. В.И. Гаман, М.А. Кривов. Томск, 1981;  
+
* Развитие физических наук в Томском университете: Сб. ст. / Ред. [[Гаман, Василий Иванович|В.И. Гаман]], [[Кривов, Михаил Алексеевич|М.А. Кривов]]. Томск, 1981;  
Александрова Н. Мне везло в жизни на хороших людей // Alma Mater. 1997. 7 марта;  
+
* Александрова Н. Мне везло в жизни на хороших людей // [https://www.lib.tsu.ru/mminfo/2018/000025030/1997/1997_005.pdf Alma Mater. 1997. 7 марта];  
Том. гос. ун-т: Ежегодник-2001 / Под ред. Г.В. Майера. Томск, 2002.
+
* [http://vital.lib.tsu.ru/vital/access/manager/Repository/vtls:000174107 Томский государственный университет: Ежегодник-2001] / Под редакцией [[Майер, Георгий Владимирович|Майера Г.В.]]. Томск, 2002.
 +
 
 +
[[Категория: Персоналии]]
 +
[[Категория: Профессора Томского университета]]
 +
[[Категория: Ассистенты Томского университета]]
 +
[[Категория: Сотрудники Физического факультета Томского университета]]
 +
[[Категория: Сотрудники Радиофизического факультета Томского университета]]
 +
[[Категория: Выпускники Физического факультета Томского университета]]
 +
[[Категория: Выпускники Томского университета]]
 +
[[Категория: Защитившие кандидатские диссертации в Томском университете]]
 +
[[Категория: Заведующие кафедрами Томского университета]]
 +
[[Категория: Заведующие лабораториями Томского университета]]
 +
[[Категория: Доценты Томского университета]]
 +
[[Категория: Награжденные медалью «Ветеран труда»]]
 +
[[Категория: Награжденные медалью «За заслуги перед Томским государственным университетом»]]
 +
[[Категория: Лауреаты премии Томского государственного университета]]
 +
[[Категория: Члены-корреспонденты Российской академии наук]]
 +
[[Категория: Все статьи]]
 +
[[Категория: Л]]

Текущая версия на 11:41, 22 августа 2024

Лаврентьева Людмила Германовна
ЛаврентьеваЛГ.jpeg
Дата рождения:

30 июля 1931 г.

Место рождения:

Чита

Дата смерти:

2008 г.

Учёная степень:

доктор физико-математических наук

Учёное звание:

профессор

Научный руководитель:

В.А. Преснов

Известные ученики:

И.В. Ивонин, И.С. Захаров

Награды и премии:


Медаль «Ветеран труда» (1984); Лауреат премии Томского государственного университета (1998); Медаль «За заслуги перед Томским государственным университетом» (1998)


ЛАВРЕНТЬЕВА Людмила Германовна (родилась 30 июля 1931 г., Чита – 2008 г.) – профессор кафедры физики полупроводников.

Семья

Отец Л.Г. Лаврентьевой, Герман Филиппович (1903-1973), из многодетной семьи (10 детей), в 15 лет остался без попечения родителей. После окончания ремесленного училища работал в железно-дорожном депо (Чита), затем служил в РККА. После демобилизации работал связистом на Забайкальской железной дороге. Мать Л.Г. Лаврентьевой, Клавдия Алексеевна (девичья фамилия Махнева, 1910), родом из семьи железно-дорожного рабочего станции Карымская. После окончания Читинской школы конторского ученичества (1928) работала счетоводом-делопроизводителем. Выйдя замуж оставила работу и занималась домашним хозяйством и воспитанием детей (Л.Г. Лаврентьева; Галина, 1933; Нина, 1939).

В поисках работы, а во второй половине 30-х, спасаясь от репрессий, отец Л.Г. Лаврентьевой вместе с семьей вынужден был менять местожительство. Перед войной переехал в с. Ново-Романово Юргинского района Кемеровской области, где Л.Г. Лаврентьева училась в семилетней школе, которую окончила в 1945 г. В годы войны мать Л.Г. Лаврентьевой работала бухгалтером в машинно-тракторной станции, а отец в апреле 1942 г. был призван в РККА и вскоре направлен на Челябинский танковый завод, где ремонтировал танки. После тяжелой простуды был переведен на инвалидность. Подлечившись, устроился на телефонно-охранную станцию одного из предприятий Бердска (Новосибирская область) предприятия п/я № 7, а позднее стал руководителем этого подразделения. Мать работала на том же предприятии телефонисткой, затем делопроизводителем, инспектором отдела кадров.

Была замужем за Виктором Александровичем Чалдышевым (1929). Он окончил физический факультет ТГУ, кандидат физико-математических наук, доцент, более 30 лет заведовал лабораторией теоретической физики СФТИ, доцент кафедры физики полупроводников физического факультета ТГУ, ветеран труда. Их дети: Наталья Чалдышева (родилась в 1953 г.), окончила радиофизический факультет ТГУ, работала в СФТИ, технический директор фирмы «Поиск»; Владимир Чалдышев (родился в 1958 г.), окончил физико-механический факультет Ленинградского политехнического института (ныне Санкт-Петербургский технический университет), доктор физико-математических наук, ведущий научный сотрудник ФТИ им. А.Ф. Иоффе.

Школьные и студенческие годы

Л.Г. Лаврентьева после окончания Бердской средней школы № 2 (1948) поступила на физико-математический факультет ТГУ, который вскоре разделился на механико-математический и физический факультеты. Среди ее университетских учителей Г.А. Бюлер, Ф.И. Вергунас, К.В. Водопьянов, В.В. Жданов, Н.А. Прилежаева, А.Б. Сапожников, С.М. Чанышев и др.

В годы учебы была старостой группы. Работала пропагандистом на Томском электромоторном заводе. Отвечала за научно-исследовательскую работу студентов старших курсов факультета. В составе группы студентов и аспирантов за выполнение темы «Исследование физических свойств спая стекла и керамики с металлом» была награждена грамотой ТГУ, грамотой и денежной премией МВО СССР (1952). Окончила университет (1953) по специальности «физика» с квалификацией «физик», защитив дипломную работу «Исследование влияния добавок окислов металлов на физические свойства вакуумноплотной керамики» (научный руководитель В.А. Преснов).

Научно-организационная и преподавательская деятельность

С 1 ноября 1953 г. – аспирант кафедры диэлектриков и полупроводников (бывшая кафедра электрофизики). С 1 ноября 1956 г. – ассистент кафедры полупроводников радиофизического факультета, с 1 августа 1960 г. – старший научный сотрудник проблемной лаборатории полупроводников ТГУ, с 1 ноября 1961 г. – старший научный сотрудник лаборатории полупроводников СФТИ при ТГУ. По совместительству с 3 сентября 1967 г. по 30 июня 1970 г. – доцент кафедры полупроводников радиофизического факультета. После организации лаборатории эпитаксиальных структур в отделе физики полупроводников СФТИ с 1 января 1974 г. по 1 октября 1993 г. – заведующая лабораторией.

В 1982 г. по инициативе Л.Г. Лаврентьевой на кафедре физики твердого тела физического факультета ТГУ была организована подготовка специалистов по физике полупроводников (до 1991 г. Л.Г лаврентьева исполняющая обязанности руководителя специализации). По совместительству с 1 сентября 1983 г. – профессор кафедры физики твердого тела. После открытия на физическом факультете кафедры физики полупроводников Л.Г. Лаврентьева – заведующая кафедрой (с 1 сентября 1991 г. до 1 сентября 2002 г., до 1 октября 1993 г. по совместительству).

Ученое звание старшего научного сотрудника присвоено ВАК 25 марта 1964 г., доцента по кафедре полупроводников присвоено ВАК 26 февраля 1969 г., профессора по специальности «физика полупроводников и диэлектриков» присвоено ВАК 17 мая 1985 г.

Читает курс физической химии; спецкурсы: «Физика полупроводников», «Физическое материаловедение полупроводников», «Методы исследования структуры и свойств полупроводников».

Научно-исследовательская деятельность

Основное направление научных исследований Л.Г. лаврентьевой – физическое материаловедение применительно к материалам электронной техники. До начала 60-х гг. она занималась материаловедением диэлектриков: исследовала структуру и свойства стеатитовой радиокерамики, производство которой осваивал один из новосибирских заводов. Экспериментально было изучено влияние состава шихты и условий отжига на процесс формирования структуры кристаллической фазы (метасиликата магния) керамики, на полиморфные превращения в этой фазе, найдены условия стабилизации структуры, что позволило инженерам-разработчикам скорректировать технологию производства и увеличить срок службы металлокерамических радиоламп.

23 мая 1960 г. в совете ТГУ Л.Г. Лаврентьева защитила диссертацию «Исследование структуры стеатитовых керамических радиоматериалов» на соискание ученой степени кандидата физико-математических наук (научный руководитель В.А. Преснов; официальные оппоненты доктор физико-математических наук, профессор Н.А. Прилежаева и кандидат технических наук, доцент Р.М. Кессених; утверждено ВАК 6 мая 1961 г.).

Затем Л.Г. Лаврентьева по совету В.А. Преснова переключилась на материаловедение полупроводников, занявшись газофазовой эпитаксией (ГФЭ) полупроводников А3В5. В лаборатории полупроводников СФТИ под руководством Л.Г. Лаврентьевой была создана группа из выпускников радиофизического и физического факультетов ТГУ (М.Д. Вилисова, И.К. Ковалев, Ю.Г. Катаев, В.А. Московкин и др). Впервые в СССР в СФТИ в 1961 г. были получены пленки арсенида галлия газофазовым методом (совместно с В.А. Пресновым, М.Д. Вилисовой), изготовлены первые туннельные диоды на этих пленках.

Для развития работ по эпитаксии полупроводников в СФТИ на базе двух научных групп (эпитаксии и структурных методов, руководители Л.Г. Лаврентьева и М.П. Якубеня) в 1973 г. была сформирована, а в 1974 г. официально открыта в рамках отдела физики полупроводников лаб. эпитаксиальных структур (руководитель Л.Г. Лаврентьева).

В последующие годы лаборатория была оснащена аппаратурой для проведения ГФЭ, изучения структуры (электронные микроскопы, электронограф, рентгеновский дифрактометр) и свойств полупроводников. Были проведены исследования кинетики кристаллизации и легирования эпитаксиальных слоев полупроводников, получаемых методом ГФЭ, выполнено физическое моделирование этих процессов. Для полупроводников А3В5 (арсенид галлия, арсенид индия) установлены зависимости скорости роста и скорости захвата примеси от кристаллографических индексов поверхности кристалла, исследованы зависимости кинетики роста и кинетики захвата примеси от основных параметров процесса ГФЭ: типа транспортного вещества (иод, хлор), его концентрации и температуры кристаллизации, получены данные о влиянии электрического поля на эпитаксиальный рост пленок арсенида галлия. Выявлены основные закономерности образования переходных слоев на границе пленки с подложкой и роль структуры подложки в формировании специфических дефектов роста (центров торможения ст. роста). Получены приоритетные результаты по закономерностям формирования сложных точечных дефектов (примесно-вакансионных комплексов) в условиях ГФЭ. Разработаны физические модели и проведены расчеты термодинамики адсорбции и комплексообразования, кинетики роста и легирования применительно к газофазовой эпитаксии сложных полупроводников.

6 мая 1982 г. в специальном совете Института физики полупроводников СО АН СССР (Новосибирск) Л.Г. Лаврентьева защитила диссертацию «Кинетика и механизм газофазовой эпитаксии (на примере арсенида галлия)» на соискание ученой степени доктора физико-математических наук (официальные оппоненты доктора физико-математических наук А.Ф. Кравченко и С.А. Семилетов, доктор технических наук Ю.Д. Чистяков; утверждено ВАК 17 июня 1983 г.).

Результаты исследований Л.Г. Лаврентьевой были использованы при отработке технологий производства материалов и приборов электроники. С начала 90-х под руководством Л.Г. Лаврентьевой изучались эпитаксиальные слои арсенида галлия, получаемые методом молекулярно-пучковой эпитаксии при низких температурах (LT-GaAs). Работа выполнялась сотр. трех коллективов (СФТИ, ИФП СО РАН, ФТИ им. А.Ф. Иоффе) при финансовой поддержке различных программ и грантов. В результате выяснено, что монокристаллические слои LT-GaAs содержат аномально высокую концентрацию избыточного мышьяка, формирующего при отжиге преципитаты (кластеры) нанометровых размеров, которые существенно изменяют свойства материала. Такой материал представляет практический интерес для СВЧ-приборов специального назначения.

Под руководством Л.Г. Лаврентьевой в ТГУ сформировались научное направление «Физические основы газофазовой эпитаксии полупроводников А3В5» и научная школа.

Автор более 250 работ, 5 учебных пособий и методических разработок, получила 3 авторских свидетельства.

Деятельность по подготовке кадров высшей квалификации

Она подготовила 10 кандидатов наук. Защитили докторские диссертации ее ученики И.С. Захаров (ректор Курского технического университета, заслуженный деятель науки, организатор и главный редактор всероссийского научно-технического журнала «Телекоммуникации») и И.В. Ивонин (заведующий лабораторией эпитаксиальных структур отдела физики полупроводников СФТИ, заведующий кафедрой физики полупроводников физического факультета ТГУ).

Участие в конференциях, совещаниях, симпозиумах и международная деятельность

Принимала участие в работе многих международных, всесоюзных и российских научных конференциях и совещаниях. Входила в состав оргкомитета Всероссийских научных конференций по арсениду галлия (Томск, 1965, 1968, 1974, 1978, 1982, 1987, 1999, 2002).

Научно-организационная и экспертная деятельность

С 2001 г. Л.Г. Лаврентьева – член докторского диссертационного совета (физика конденсированного состояния; физика полупроводников) в ТГУ. До 2001 г. входила в состав кандидатов диссертационного совета в ТГУ.

Являлась членом научного совета АН СССР «Физико-химические основы полупроводникового материаловедения», совета АН СССР по росту кристаллов, научно-методического совета УМО Минвуза РФ по образованию в области авиации, ракетостроения, космоса и др.

С 1997 – член Научного совета РАН «Физико-химические основы материаловедения полупроводников». Член редколлегии журнала «Известия вузов. Физика» (1982-1991). С 1997 г. – член редколлегии журнала «Известия вузов. Материалы электронной техники» (Москва).

Член-корреспондент (1996), действительный член РАЕН (2000). Действительный член Азиатско-Тихоокеанской академии материалов (APAM – The Asia-Pacific Academy of Materials, 1997). Депутат Томского городского совета депутатов трудящихся (1971-1980). Избиралась членом профбюро СФТИ, член профбюро ТГУ.

Награды и премии

Труды

  • Совместно с И.С. Захаровым, Ю.М. Румянцевым. Зависимость скорости роста и уровня легирования эпитаксиального германия от ориентации подложки // Кристаллография. 1970. Т. 15, № 4;
  • Совместно с Л.П. Пороховниченко, И.В. Ивониным, Л.М. Красильниковой. Зарождение дефектов при эпитаксии арсенида галлия // Дефекты структуры в полупроводниках. Новосибирск, 1973;
  • Совместно с М.Д. Вилисовой. Переходные слои в автоэпитаксиальных структурах // Известия СО АН СССР. Серия химия. 1975. № 2, вып. 1;
  • Совместно с I.V. Ivonin, L.M. Krasilnikova, M.D. Vilisova. Formation of submicron growth defects during vapour deposition of GaAs films // Kristall und Technik, 1980. Vol. 15, № 6;
  • Фоновые примеси и локальные неоднородности в слоях арсенида галлия, полученных газофазовой эпитаксией // Процессы роста и структура монокристаллических слоев полупроводников. Новосибирск, 1981;
  • Захват примеси при газофазовой эпитаксии арсенида галлия // Известия вузов. Физика. 1983. № 10;
  • Совместно с И.А. Бобровниковой, С.Е. Тороповым. Комплексообразование при газофазовой эпитаксии арсенида галлия, легированного теллуром // Известия вузов. Физика. 1986. № 5;
  • Совместно с М.Д. Вилисовой. Образование центров с глубокими уровнями при газофазовой эпитаксии арсенида галлия // Известия вузов. Физика;
  • Совместно с З. Алексеевой. Дело ученого // За советскую науку. 1987. № 31;
  • Совместно с М.П. Рузайкиным, А.Б. Свечниковым. Расчет энергии адсорбции атомов H и Cl на реконструированной грани (2х1)(100) кремния // Поверхность. 1988. № 11;
  • Совместно с М.Д. Вилисовой, В.В. Преображенским, В.В. Чалдышевым. Молекулярно-лучевая эпитаксия арсенида галлия при низких температурах: влияние избыточного мышьяка на структуру и свойства слоев // Известия вузов. Физика. 2002. №8.

Источники и литература